一、硅片光刻机用什么光源
是一种集合了数学、光学、流体力学、高分子物理与化学、表面物理与化学、精密仪器、机械、自动化、软件、图像识别领域顶尖技术的产物。
它的工作原理说起来不复杂，就是用"紫外线"对晶圆进行雕刻，在硅片上雕刻出设计好的电路图。
现在最先进的EUV光刻机制程是7nm，这相当于一根头发的万分之一。由于要达到这样的雕刻精度，在雕刻的过程中晶圆需要被快速移动，每次移动10厘米，过程中误差要控制在纳米级别。
二、光刻机是在晶圆上光刻电路吗
芯片制作过程中，紫外线曝光是其中一步，而这个步骤就是由光刻机所执行的，它是芯片生产的核心，也是这个步骤决定了芯片的制程工艺。而光刻的工作原理，大家可以想象一下胶片照片的冲洗，掩膜版就相当于胶片，而光刻机就是冲洗台，它把掩膜版上的芯片电路一个个的复制到光刻胶薄膜上，然后通过刻蚀技术把电路“画”在晶圆上。
三、光刻机硅晶片
现代光刻技术可以追溯到190年以前，1822年法国人Nicephore niepce在各种材料光照实验以后，开始试图复制一种刻蚀在油纸上的印痕(图案)，他将油纸放在一块玻璃片上，玻片上涂有溶解在植物油中的沥青。经过2、3小时的日晒，透光部分的沥青明显变硬，而不透光部分沥青依然软并可被松香和植物油的混合液洗掉。通过用强酸刻蚀玻璃板，Niepce在1827年制作了一个d’Amboise主教的雕板相的复制品。
但Niepce的发明在100多年后，即第二次世界大战期间才第一应用于制作印刷电路板，即在塑料板上制作铜线路。
直到1959年，世界上第一架晶体管计算机诞生，提出光刻工艺，仙童半导体研制世界第一个适用单结构硅晶片。
四、光刻机用的什么光源
现在半导体生产中光刻机是必不可少的，通过配置不同波长的光源可以生产不同工艺和技术节点的芯片，光刻机的光源波长大致可以分为436nm(g线)365nm(i线)248nm(Krf)及深紫外193nm(Arf)和13.5nm的极紫外EUV光刻机，现在最先进的是EUV可以生产7nm以下的芯片！
五、光刻胶和硅片
光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展，更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。印刷工业是光刻胶应用的另一重要领域。
1954年由明斯克等人首先研究成功的聚乙烯醇肉桂酸脂就是用于印刷工业的，以后才用于电子工业。光刻胶是一种有机化合物，它被紫外光曝光后，在显影溶液中的溶解度会发生变化。硅片制造中所用的光刻胶以液态涂在硅片表面，而后被干燥成胶膜。
六、光刻机 硅
光刻机和激光雕刻机最大的区别是，是否直接切割。
激光雕刻机是利用激光对需要雕刻的材料进行雕刻的科技设备。激光雕刻机也可称为激光切割机，激光刻字机等，将激光射到木制品、亚克粒、塑料板、金属板、石材等几乎所有的材料之上。
而光刻机实际上不是刻，而是光照，利用紫外线和光刻胶及其他设备共同完成对硅晶圆的腐蚀镂刻，其光源无法直接对硅晶圆做切割等加工动作。