一、国产EUV光刻机有了突破
已完全国产。
经过快20年的攻关，光刻机的集成技术已经完成从0到1，取得了许多重大的突破。
国产90nm光刻机早已商用，DUV浸润式光刻机的主要技术也都攻克了，光源、镜头、双工件台都有了，沉浸式65nm、45nm和28nm的DUV光刻机国产化是迟早的事。而最先进的EUV光刻机（7nm以下）还没有开始整机立项研发，实现仍需要一段时间，但相关研究已经开展。
二、国产euv光刻机最新消息
euv光刻机目前全球只有荷兰阿斯麦尔一家可以制造，严格来说是组装，因为其主要零部件来自众多不同国家。所以，凭一国之力短期内要突破所有euv光刻机技术不太现实。
比较现实的是面向中低端光刻机的研发和中低端芯片的市场占有率。
而且在新材料新技术方面寻求替代技术也很重要，比如碳基芯片、光子芯片、量子芯片等
三、中国euv光刻机进展
什么时候出来还无法预知。
国产光刻机目前最高级别为28纳米duv光刻机，是上海微电子出产的。而所谓7纳米光刻机实际上是13.5纳米极紫外光光源光刻机，通过技术手段比如多次曝光技术加工制程7纳米及以下制程的芯片，既euv光刻机。两者相差一代，目前我国还无法制造euv光刻机，至于何时出来也无法预知。
四、中国唯一一台euv光刻机现状
中国张江啊不能独立造光刻机。
目前全球能制造光刻机的只有三个国家四家公司，分别是荷兰阿斯麦尔、日本尼康和佳能、中国上海微电子。其中荷兰阿斯麦尔是唯一能制造高端euv光刻机的公司，并且是四十个国家合作完成的。日本尼康和佳能可以制作22纳米中端光刻机。而我国国内唯一能制作光刻机的只有上海微电子，今年28纳米中端光刻机通过技术检测和认证，预计年底能量产。所以张江无法独立造光刻机。
五、国产euv光刻机研发
答：中国最少要20年左右才能造出2纳米左右的光刻机！现在世界上最先进的光刻机制造厂家是荷兰的阿斯麦公司，他最先进的光刻机是13.5nm光源的EUV光刻机，使用台积电最先进的生产工艺现阶段能达到3nm工艺节点。中国最先进的光刻机是上海微电子90nm光刻机，与世界先进水平差距比较大！
六、国产EUV光刻机发展规划
是duv光刻机和euv光刻机的区别，有代差。
国产光刻机目前是属于duv深紫外光光源光刻机，其光源波长为193纳米，也叫arf光刻机，是第四代光源光刻机。而euv光刻机是13.5纳米极紫外光光源光刻机，属于第五代光源光刻机。国产光刻机目前最高制程可以达到28纳米，目前处于待量产阶段。国产光刻机和euv光刻机有代差。