一、光刻机是个啥
1 时间光刻机又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
2 光刻机的工作原理是通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上。然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图。
二、光刻机是啥?
光刻机中国能制造，但是精度不如国外。 中国科学院成都光机所和四十五所，能制造接近接触式光刻机。 上海微电子装备有限公司能够制造投影式光刻机。在LED、IC后道和平板显示的微米级光刻机都有不少销量。IC前道光刻机分辨力要求较高，目前只能制造百纳米或几十纳米级别光刻机，而国外已经推出13纳米的光刻机了。 核心技术包括投影物镜、精密运动台和精密测量系统等。对于最先进的光刻机，关键的镜片、传感器和电机等依靠进口。
三、光刻机是啥玩意
没有水刻机，只有光刻机，所以没有区别一说。
目前全球可以制造高中低端芯片的设备只有光刻机，没有什么水刻机。有水切割机，那玩意跟芯片没任何关系。但要注意的是光刻机中的duv深紫外线光刻机，实际上是用水的折射使193纳米的深紫外线波长压缩到小于157纳米的。
四、光刻机是个啥机器
光刻机是半导体生产制造的主要生产设备之一，也是决定整个半导体生产工艺水平高低的核心技术机台。半导体技术发展都是以光刻机的光刻线宽为代表。光刻机通常采用步进式(Stepper)或扫描式(Scanner)等，通过近紫外光(Near Ultra-Vi—olet，NUV)、中紫外光(Mid UV，MUV)、深紫外光(DeepUV，DUV)、真空紫外光(Vacuum UV，VUV)、极短紫外光(Extreme UV，EUV)、X-光(X-Ray)等光源对光刻胶进行曝光，使得晶圆内产生电路图案。一台光刻机包含了光学系统、微电子系统、计算机系统、精密机械系统和控制系统等构件，这些构件都使用了当今科技发展的尖端技术
五、光刻机是什么?
光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System。
一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。
六、光刻机到底是什么东西
1、对撞机是干什么用的？
对撞机是一种粒子加速器，是为了让不同粒子撞在一起。
对撞机是在高能同步加速器基础上发展起来的一种装置。
20世纪50年代初，对撞机的设计者就有过利用对撞束来获得更高质心系能量的设想。
对撞机是测量高能粒子实验的仪器，目的是要发现新物理新粒子，包括场能效粒子超对称粒子超额维度量子。
2、光刻机是干什么用的？
光刻机是用来制造芯片的。光刻机又被称为掩膜对准曝光机，在芯片生产中用于光刻工艺，而光刻工艺又是生产流程中最关键的一步，所以光刻机又是芯片生产中不可缺少的设备。
光刻机决定了芯片的精密尺寸，设计师设计好芯片线路，在通过光刻机将线路刻在芯片上，其尺度通常在微米级以上。
光刻机是芯片生产中最昂贵也是技术难度最大的设备，因为其决定了一块芯片的整体框架与功能。
其实生产高精度芯片并不难，只是生产速度太慢，而光刻机能快速生产高精度的芯片，所以很重要。