1. 光刻机最先进的
14nm。
目前国内光刻机技术水平距离世界先进还有较大差距，特别是跟荷兰的阿斯麦这样顶尖的公司对比。所以先进制程的光刻机只能依靠进口，14nm的光刻机已经是目前可以获得的最先进光刻机。
7nm制程的光刻机，目前因为禁运原因，国内拿不到。14nm也不是想买就能买的。
2. 光刻机多少钱一台
根据ASML此前公布的数据显示，在熟练操作员的操作下，EUV光刻机的处理能力为200片12寸晶圆/小时。
但这只是理想状态，实际操作中最高为每小时处理100片左右，一天工作下来也就是1000片。 不过，这还只是晶圆，芯片产能还需要进一步计算。 以113.31平方毫米的麒麟990 5G为例，一块12英寸的晶圆在去除边角区域后，大约可生产600块芯片，数量已经十分可观。
那么，就是说一台EUV光刻机一天能生产60万片芯片? 不，这只是理想状态。 芯片制造十分复杂、严苛，稍有不慎便可能使得整片芯片废掉。 因此，还不得不考虑到良品率，这样一来，一块12英寸晶圆能生产的芯片数量便降至500片左右。
一天下来，EUV光刻机能生产50万片芯片，这一数字依旧十分惊人。
垄断全球的荷兰光刻机，一台设备卖10亿，一年能造多少颗芯片?
3. 光刻机
排名前台积电、三星、英特尔。
光刻机拥有量排名主要有三家，第一是台积电，其高端euv光刻机大约70台，duv光刻机大概二百台。第二是三星公司，其高端euv大约20台。第三的英特尔高端euv光刻机不到10台。这三家基本垄断了所有euv光刻机，至于duv光刻机很多代工厂都有，但也是这三家最多。
4. 中国最先进的光刻机
当今，光刻机生产最先进的国家还是荷兰 ASML。
实际上除了荷兰ASM L以外，中国、日本都有能力生产光刻机设备，只是无法达到ASML这么顶级的技术罢了。
虽然目前国产光刻机设备依旧还有很大技术差距，但我们相信随着未来摩尔定律达到极限，一定会有全新的芯片技术诞生，而国产光刻机设备也一定会达到世界顶尖水平，我们期待这一天的尽快到来.。
5. 我国光刻机最新消息
是真的。
光刻机，又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
我国很早就在研发光刻机，之前生产出来的只不过是低端的光刻机。2016年，上海光电就生产制造出了90纳米的光刻机，占据着我国市场80%的份额，虽说低端，但满足大多数需求是够的。象尖端手机需要的芯片我们目前还被西方国家卡脖子。但在国家的大力支持下，在国人日夜的攻坚下，上海光电28纳米光刻机已研发成功，今年明年将量产。后续我们还将继续突破。
2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。
6. 光刻机国产
成功了。
国内首台具有世界领先水平、拥有自主知识产权的无掩膜光刻机日前在合肥面世。由中国工程院院士张钟华、叶声华等专家组成的鉴定组在鉴定后认为，芯硕半导体(中国)有限公司的“光刻机”技术，填补了国内光刻机在该项领域的空白，并且在国际同类产品中处于先进水平。