1. 国产第一台光刻机
光刻机国产排名第一的是上海微电子。
目前全球只有四家能够制造光刻机的公司，分别是荷兰阿斯麦尔、日本尼康和佳能、中国上海微电子。这里说的光刻机指的是euv/duv浸润式光刻机。所以说，国内仅有一家能够制造光刻机的公司，既上海微电子，所以上海微电子排名第一。
2. 首台国产光刻机诞生
上海微电子成立于2002年，2007年就研发成功了国内首台90nm工艺光刻机。同时，近十几年来，我国一直在致力于研究光刻机，但是取得的成果不容乐观。如今，13年后，国产光刻机企业还是停留在90nm工艺光刻机，跟ASML、尼康等具备28nm以上工艺光刻机的企业相比，差距还是比较大的，尤其是跟asml7nmEUV的差距更大。
3. 中国第一代光刻机
大约1.5亿欧元。
荷兰阿斯麦尔公司的euv光刻机售价大约1.5亿欧元，不过要说明的是并没有5纳米光刻机，euv光刻机目前处于第一代，也就是13.5纳米极紫外光光源波长本身就是euv光刻机的精度，只不过台积电和三星通过技术使其能够加工出5nm芯片甚至更高制程。荷兰阿斯麦尔euv光刻机非常昂贵，每台售价差不多1.5亿欧元。
4. 国产第一台光刻机是什么
是真的。
光刻机，又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
我国很早就在研发光刻机，之前生产出来的只不过是低端的光刻机。2016年，上海光电就生产制造出了90纳米的光刻机，占据着我国市场80%的份额，虽说低端，但满足大多数需求是够的。象尖端手机需要的芯片我们目前还被西方国家卡脖子。但在国家的大力支持下，在国人日夜的攻坚下，上海光电28纳米光刻机已研发成功，今年明年将量产。后续我们还将继续突破。
2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。
5. 中国唯一一台光刻机
当今，光刻机生产最先进的国家还是荷兰 ASML。
实际上除了荷兰ASM L以外，中国、日本都有能力生产光刻机设备，只是无法达到ASML这么顶级的技术罢了。
虽然目前国产光刻机设备依旧还有很大技术差距，但我们相信随着未来摩尔定律达到极限，一定会有全新的芯片技术诞生，而国产光刻机设备也一定会达到世界顶尖水平，我们期待这一天的尽快到来.。
6. 国产首台光刻机
答：中国最少要20年左右才能造出2纳米左右的光刻机！现在世界上最先进的光刻机制造厂家是荷兰的阿斯麦公司，他最先进的光刻机是13.5nm光源的EUV光刻机，使用台积电最先进的生产工艺现阶段能达到3nm工艺节点。中国最先进的光刻机是上海微电子90nm光刻机，与世界先进水平差距比较大！
7. 国产第一台光刻机是哪一年
中国首台国产28nm光刻机有望年底投入使用
上海微电子的28纳米光刻机已经正式通过了技术认证和检测，有望在年底投入使用，这预示着我们在摆脱外国技术依赖上又前进了一大步。这个消息让无数国人感到沸腾。
相信在不久的未来，中芯国际等半导体行业，飞速发展的背后预示的是中国智造的崛起，这一点体现在各行各业，尤其是手机领域今年的表现就十分亮眼。